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投影光刻机曝光光学系统研发及批量生产基地项目

项目时间:2021年6月

项目地点:北京经济技术开发区0606街区YZ00-0606-0024地块

项目规模:建筑面积109930.89平方米(单体最大面积58400平方米,最大单跨跨度16.8米)

项目概述

构建企业单位上海国望光学薄膜网络现有集团工司是国内生育光刻机管理处结构件生育商。本项目建设完工后,将降速保持中中高级光刻机的国内生育化。集团工司将按照严格执行监理员、质量上乘工作,助力器我国尽早冲刺中中高级光刻机理造“卡脖颈”问题。
010-83319999